1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位,约为100A）,真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。

3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。

主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE束外延,溶胶凝胶法等等 。

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射）,晶向（外沿）生长的控制也比较一般。